분류 전체보기9 [반도체]박막증착공정 기본: CVD(Chemical Vapor Deposition) 1. CVD 개념 Chemical Vapor Deposition의 줄임말로 화학기상증착법이라고도 불림 가스의 화학 반응으로 형성된 입자들을 외부 에너지 부여된 수증기 형태로 쏘아 증착하는 방식 가장 오래된 반도체 공정 중 하나임 (1) CVD 장점 PVD보다 표면접착력이 10배 높음 대부분의 표면에 적용가능하므로 활용도가 높음 도체, 부도체, 반도체 박막증착에 모두 사용가능 불순물의 분포와 농도조절 가능 반응 가스 선택가능 대량생산 가능 (2) CVD 단점 압력이 낮을수록 공정의 프로세싱 시간이 길어짐 고진공 상태에서 기체들의 반응속도를 유지하려면 웨이퍼 온도를 높여야하지만, 그러면 재료 선택이 까다로워짐 두께 조절 컨트롤하기 어려움 반응 변수가 많음 위험한 가스의 사용 2. CVD방식의 종류 열에너지 .. 2020. 4. 9. [반도체]박막증착공정 기본: ALD(Atomic layer deposition)증착 기술 1. CVD, PVD, ALD CVD는 Chmical Vapor Deposition의 약자로, 화학적 증착방식을 말한다. PVD보다 빨리 나온 방법으로 화학적으로 막을 성장시키는 방식이다. PVD는 Physical Vapor Deposition의 약자로, 물리적 증착방식이다. 보통 열증착이나 플라즈마 증착방식으로 막을 형성시킨다. CVD, PVD의 공통점은 박막을 만들 때 두께가 단단위 나노미터로 얇게 하는데 한계가 있다는 점이다. ALD는 Atomic Layer Deposition의 약자로, 원자급 레이어를 형성할 수 있는 증착기술을 뜻한다. 원자층을 한층한층 쌓아올려 막을 형성하는 적층방식이기 때문에 나노미터급의 아주얇은 박막을 형성할 수 있다. 2.1 ALD 기본원리 1) 흡착단계 : 1차 소스(전.. 2020. 4. 8. [반도체]박막측정장비: 라만 분광법(Raman Spectroscopy) 1. 개념 빛의 파장을 변화시키는 산란 현상을 라만 산란(Raman scattering) 혹은 라만 효과(Raman effect)라고 한다. 1928년 Rama과 다른 연구원들이 용액에 파란색 빛을 투과했을 때 초록색 빛이 산란되어 나오는 것을 처음 발견하여 라만분광법(Raman spectroscopy)이라는 이름이 붙여졌다. 이후 라만분광학은 분자의 진동 스펙트럼을 측정하여 분자의 진동구조를 연구하거나 물질의 정성, 정량 분석에 이용되었다. 최근에는 생체조직의 정보분석을 위한 연구에도 적용되고 있다. 2.1 라만 산란의 정의 빛이 어떤 매질을 통과할때 산란된 빛은 원래의 에너지를 그대로 갖고 있거나, 원래 빛의 에너지보다 적거나 많은 에너지를 가지게 된다. 원래 에너지를 그대로 유지하며 산란되는 과정(.. 2020. 4. 7. 2차원소재(2DLMs) 1.1 2차원소재(2DLMs)* 정의 원자들이 단일 원자층 두께를 가지고 평면에서 결정구조를 이루는 물질 * Two-dimensioncal layered materials (1) 장점 크리스탈격자구조로 매칭하지 않고 반데어발스로 매칭해도 아주 다양한 물질을 만들수 있음 (2) 단점 소스, 드레인의 접촉저항이 높음 PN 도핑문제 문턱전압문제 이동도의 지역적 균질화 등 1.2 2차원소재 분류 전기적 특성에 따라 도체, 반도체, 부도체로 분류되며, 대표적으로 그래핀, 전이금속 디칼코게나이드, 흑린, 육방정계 질화붕소의 연구가 활발히 진행되고 있음 (1) 0D-2D, 1D-2D 반데르발스 이종구조 나노 물질결합의 새로운 패러다임 장점 : 넓은 밴드의 광감지기같은 많은 놀라운 소자만들 수 있음 (2) 2D-2D .. 2020. 4. 7. 이전 1 2 3 다음
